蒸发系统
液态源直接蒸发是指直接加热液态源，使原料达到或接近沸点，形成一定压力下并具有足够利于自身扩散的饱和蒸气压，直接供应原料蒸汽。
适用场合： DIFF Process, CVD Process, TCO Process,
VAD OVD PCVD MOCVD Process 等。
适用气体：SiCl4, GeCl4, TCS, TMB, TEOS, POCl3,
DeZn等。
可根据客户工艺流量要求及介质性质定制合适的蒸发器，专为客户工艺定制的GAS BOX，将蒸发器，MFC, 温度压力等传感器件、阀门整合在一起，即为蒸发系统。
蒸发加热的优势：
1. 出气即为液态源的饱和蒸气，可以直接确认蒸汽浓度，工艺参数易于控制。
2. MFC为原料蒸汽的高温MFC,直接控制出气流量。
3. 加热原料方式采用PID和压力反馈联用方式，使原料在蒸发器中处于稳定的温度和压力状态。
4. 匹配的高温环境杜绝原料液化。
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